鉬片的應用和發展方向!
由于鉬是一種熔點為2625度的難熔金屬,在高溫下其具有很強的抗張強度、抗蠕變強度以及良好的耐熱性,熱膨脹系數低,導熱率和導電率均高,同時對液態金屬、鉀、鈣、鉍和銫等和其它熔鹽有良好的抗蝕性,因此,它以各種形式應用于國民經濟各個領域中,如宇航和核能,照明電器和電子器件,真空爐和保護氣氛電爐,金屬壓力加工、玻璃工業等。
高科技的迅速發展,也為鉬片的新應用和發展開辟了十分廣闊的前景。如超高純鉬在微電子技術中的應用,用高純和超高純鉬同硅共濺制取的MoSi2在微電子器中用作集成線路的更為優良的布線材料和在金屬化合物半導體中作高級柵門材料,由于微電子技術發展的需要及迅速發展,高純和超高純鉬發展十分迅速,如德國和俄羅斯已用化學和物理方法分別生產出純度為99.999%的鉬;鉬在核聚變反應堆技術中的應用;鉬片在超導材料中的應用,如現已制出了PbMo6S8粉末截面積占20%,直徑為0.4mm的PMS導線,這是因為PbMo6S8具有高達60T的上臨界場。
因此,不只引起了材料界的極大興趣,并且還正在進行著廣泛的研究;鉬在增強技術方面的應用,如利用顆粒增強劑,i、Zr、Hf的碳化物,稀土氧化物等已制成了比純鉬更優越的鉬合金,如MHC、ZHM、M25WH等,這些新型合金的再結晶清晰度和熱強度都有大幅度的提高及增強。
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